• [광운 Hot Issue] 하태준 교수 연구팀의 논문, 저명한 저널의 front cover 선정

    조회수 836 | 작성일 2018.08.21 | 수정일 2018.10.08 | 홍보팀

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  • 하태준 교수(전자재료공학과),IEEE Electron Device Letters 저널에 이어 Science of Advanced Materials 저널의 front cover 선정

     

    하태준 교수(좌측), 석박사통합과정 유병수 학생(우측)

    @ 하태준 교수(좌측), 석박사통합과정 유병수 학생(우측)


    본교 하태준 교수(전자재료공학과, 사진 좌측)의 논문이 20189월 게재된 Science of Advanced Materials 저널의 front cover에 선정되었다. (참고: http://www.aspbs.com/sam/sam109.pdf)

    논문에 따르면 하태준 교수 연구팀은 접촉각 측정을 통하여 oxide fluoropolymer 기반 박막의 표면 특성을 분석하였고, 자외선 오존 후처리 공정에 따른 각 박막의 표면 에너지 변화에 관한 메커니즘을 규명하였다.

     

    박막의 친수성 및 소수성 표면 특성은 전자 소자를 제작하는 공정 과정에서 매우 핵심적인 역할을 한다. 이에, 접촉각 측정을 통하여 얻을 수 있는 박막의 젖음성 특성, 표면 에너지 및 거칠기 등의 파라미터들을 최적화하는 연구가 중요해지고 있다. 이에 하태준 교수 연구팀은 SiO2, Al2O3와 같은 oxide 계열 박막과 강한 carbon-fluorine 결합을 갖는 Teflon-AF 박막을 제작하고, 접촉각 측정을 통한 각각의 표면 에너지 비교 분석을 진행하였으며, 자외선 오존 후처리에 의해 변화되는 박막 표면 특성에 대해 보고하였다. 이번 연구는 미래창조과학부가 주관하는 한국연구재단 중견연구사업 지원으로 수행되었다.

     

    한편, 하태준 교수는 첨단 재료를 기반으로 한 차세대 디스플레이 및 센서에 관한 연구를 진행하고 있으며, 디스플레이 연구조합 및 인쇄 전자 산업협회에서 활동하고 있다.

     

    자외선 조사 이전 DI water droplet에 의해 형성되는 (a) SiO2, (b) Al2O3 (c) Teflon-AF의 접촉각, 자외선 조사 이후 DI water droplet에 의해 형성되는 (d) SiO2, (e) Al2O3 (f) Teflon-AF의 접촉각자외선 조사 이전 DI water droplet에 의해 형성되는 (a) SiO2, (b) Al2O3 (c) Teflon-AF의 접촉각, 자외선 조사 이후 DI water droplet에 의해 형성되는 (d) SiO2, (e) Al2O3 (f) Teflon-AF의 접촉각

     

    자외선 조사 시간에 따른 SiO2, Al2O3, Teflon-AF 박막의 (a) 접촉각 변화 및 (b) 친수성 전환율을 나타내는 그래프

    자외선 조사 시간에 따른 SiO2, Al2O3, Teflon-AF 박막의 (a) 접촉각 변화 및 (b) 친수성 전환율을 나타내는 그래프


     Science of Advanced Materials 저널의 cover feature에 선정된 그림

       Science of Advanced Materials 저널의 cover feature에 선정된 그림

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